PECVD系统

PECVD系统配置：1.1200度开启式双温区真空管式炉2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统(可选配中真空或高真空)

产品用途：

产品专业性：

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品组成：

PECVD系统配置：

1.1200度开启式双温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统(可选配中真空或高真空)

产品特点：

生长温度低;沉积速率快;成膜质量好，适用范围广，设备简单

PECVD系统产品链接：

https://www.chem17.com/st102089/erlist_1156085.html

http://www.ctjzh.net/SonList-1156085.html。