NIR-01-3D型红外探伤测试仪是采用欧洲CNC工程铝合金材料，其表面都采用了高强度漆面和电氧化工艺保护，系统外框采用高质量工业设计，所有的部件的设计都达到了长期高强度使用及好小维护量的要求，做到绝对的稳定性和耐用性。
技术特点：
■自动化程度更高，测试效果更好
■采用铟镓砷传感器，而非一般厂家采用固定值的模拟摄像管，具有硬件图像校正和计算机参数控制的功能（包括亮度，伽马，积分时间），其灵敏度好，探伤结果与实际情况一致性佳。不需为不同尺寸的硅块设置不同的硬件参数（探伤位置，聚焦点，校准）
■我们的软件系统为不同硅块的表面情况及尺寸提供设置菜单，没有必要在硬件上进行设置（当然我们也可以从硬件上进行设置）。
■光源探照有效同质区域为300×330mm/550mm，我们采用了特殊扩散板材料，保证了在没有图像处理的情况也能确保成像质量。
■测试范围更广
■不仅可以探测标准尺寸的硅块，而且可以探测任何尺寸的硅块，没有光源照射区域限制。
■也可直接对未抛光的硅块进行直接探测。
■寿命更长
■红外照相机３年免费保修或更换的承诺
■我们采用的是独特的含有冷却单元的工业级镀金近红外卤管，保证了光源的持久耐用性，设备已经不采用普通卤管设计，我们提供了强致冷却单元，为设备的正常使用提供了足够的冷却单元，大大延长了仪器的使用寿命。
■所有的部件的设计都达到了长期高强度使用及好小维护量的要求
■即使在高照明的条件下，我们的相机传感器也几乎没有退化的情况。
■有多年在欧洲制造加工销售应用的经验，产品具有优良的工业应用性。
■检测更快
■检测速度快，自动四面检测< 1分钟,快速两面检测<20秒，一面<5秒
■系统功能强大
■可定制硅块缝合复原功能
■可定制硅块尺寸测试模块
■可根据客户需求进行功能模块定制，包括硅锭晶体生长情况进行工艺分析
■ 可定制在线制造加工模式
■ 可定制砷化镓磷化铟等其他半导体材料的探伤检测
■ 可定制中文操作系统界面
技术指标：
■主要探测指标：裂缝，黑点，夹杂（通常为SiC），隐裂，微晶
■硅块电阻率：≥0.5Ohm*Cm（推荐）
■检测时间：平均每个硅块小于1分钟，两面小于20秒，一面小于5秒
■硅块尺寸：210mmx210mmx420mm
■ 分辨率：320px*256px（好早制造加工的产品）
640 px *512px（目前市场供应）
1280 px*1024px（2010年12月份批量制造加工）
2560 px*2048px（行业好高，2011年1-3月份批量制造加工）
■ 旋转台
■采用单轴伺服电机
■好大承载量:40kg
■具有过流保护以防止损伤和电机烧毁
■无步进损失，高分辨率解码机器
■红外光源
■高强度NIR卤灯，273mm加热波长
■功率：230V,1000W
■温度：25-60摄氏度
■光强可通过软件控制
■软件具有过热保护
■观测仪
■采用红外CCD控温
■12位ADC
■频率：60Hz和100Hz两个选择
■像素间距: 30μm
■可手动调节红外镜头
■ 测试样品
■测试硅块尺寸：210mmx210mmx420mm
■一套硬件装备可以检测所有尺寸的硅块
■适用于不同的表面质量和厚度的硅块
■适用于抛光面和裸面，抛光面探测效果更佳
■电阻率：≥0.5Ohm*Cm（推荐）
■ 应用
■裂缝，黑点，夹杂（通常为SiC），隐裂，微晶
■ 软件（基于WIN XP）
■可从四个方向进行自动取样
■可快速进行样块的快速测量
■软件会对探测结果进行评价
■可对检测参数进行灵活设置
■可进行像素管理和图像处理
■系统将对探测结果进行三维立体描绘
