FAS-1 低泡阴离子表活 硅片清洗 除硅粉除灰除垢 邦普化学

 
 
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更新 2026-10-31 10:46
 
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邦普化学(山东)有限公司

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详细说明

FAS-1是一款低泡阴离子表面活性剂,采用邦普化学窄分布技术合成。FAS-1对硅粉、碳灰等微小颗粒污垢的清洗力强,尤其是对硅粉的去污力,适用于工业清洗中对硅及金属等硬表面的除灰除垢。

产品性能

(1)FAS-1低泡沫,远低于常规阴离子表面活性剂

(2)FAS-1除灰除垢性能强,尤其对硅类粉末清洗性能强

(3)FAS-1有一定增溶效果,有助于提高体系稳定性

(4)FAS-1 耐碱性强,可用于强碱体系(在具体体系的耐碱度需要实验确定)

(5)FAS-1凝固点低,冬天使用方便

产品参数

项目

指标

产品外观(25℃)

淡黄色透明液体

pH(1%水溶液)

5.0-7.0

安全防护:本品为普通化学品,按常规化学品规格操作。

温馨提示:有关产品的具体性能及添加比例请咨询我公司相关技术人员!

 

应用领域

●不锈钢碱性除研磨液、铝合金研磨液清洗剂、金属切削液清洗剂

●太阳能硅片清洗剂、半导体晶圆清洗剂、光学玻璃磨粉清洗剂、PCB电路板清洗剂等除灰清洗剂


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